MgO substrat
Opis
Enotni substrat MgO se lahko uporabi za ustvarjanje mobilne komunikacijske opreme, potrebne za visokotemperaturne superprevodne mikrovalovne filtre in druge naprave.
Uporabili smo kemično mehansko poliranje, ki ga lahko pripravimo za visokokakovostno atomsko raven površine izdelka. Največja razpoložljiva podlaga velikosti 2”x 2”x0,5 mm.
Lastnosti
| Metoda rasti | Posebno obločno taljenje |
| Kristalna struktura | Kubični |
| Kristalografska konstanta rešetke | a=4,216Å |
| Gostota（g/cm3） | 3.58 |
| Tališče（℃） | 2852 |
| Kristalna čistost | 99,95 % |
| Dielektrična konstanta | 9.8 |
| Toplotno raztezanje | 12,8 ppm/℃ |
| Razcepna ravnina | <100> |
| Optični prenos | >90 %（200~400nm）,>98 %（500~1000nm） |
| Kristalna prefekcija | Brez vidnih vključkov in mikro razpok, na voljo je rentgenska krivulja zibanja |
Opredelitev substrata Mgo
MgO, okrajšava za magnezijev oksid, je monokristalni substrat, ki se pogosto uporablja na področju nanašanja tankih filmov in epitaksialne rasti.Ima kubično kristalno strukturo in odlično kakovost kristalov, zaradi česar je idealen za gojenje visokokakovostnih tankih filmov.
Substrati MgO so znani po svojih gladkih površinah, visoki kemični stabilnosti in nizki gostoti napak.Zaradi teh lastnosti so idealni za aplikacije, kot so polprevodniške naprave, magnetni snemalni mediji in optoelektronske naprave.
Pri nanašanju tankega filma substrati MgO zagotavljajo predloge za rast različnih materialov, vključno s kovinami, polprevodniki in oksidi.Kristalno orientacijo substrata MgO je mogoče skrbno izbrati, da se ujema z želenim epitaksialnim filmom, s čimer se zagotovi visoka stopnja poravnave kristalov in zmanjša neusklajenost mreže.
Poleg tega se substrati MgO uporabljajo v magnetnih snemalnih medijih zaradi njihove zmožnosti zagotavljanja visoko urejene kristalne strukture.To omogoča učinkovitejšo poravnavo magnetnih domen v zapisovalnem mediju, kar ima za posledico boljšo zmogljivost shranjevanja podatkov.
Skratka, posamezni substrati MgO so visokokakovostni kristalni substrati, ki se uporabljajo kot predloge za epitaksialno rast tankih plasti v različnih aplikacijah, vključno s polprevodniki, optoelektroniko in magnetnimi zapisovalnimi mediji.
